设计优点
① 闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。
② 抛光槽上表面采用水膜保护及粗螺纹水上漂方式，完整的保护正面的同时对背面作抛光处理。
③ 烘干槽采用高压风机+高效过滤器的方式，槽内控温精度误差＜±1℃。
④ 碱抛设备：链式PSG+槽式碱抛设备，设备产能大，稳定性好。
带来利处
① 酸抛5道产能≥4500PCS/H
② 酸抛10道产能≥6500PCS/H
③ 碱抛设备产能≥8000PCS/H
④ 碎片率≤0.01%
⑤ Uptime≥98%
⑥ 速度≥2.5m/min
⑦ 对单、多晶硅片进行刻蚀/抛光、清洗、干燥。
交付周期
① 预付款到账后90天
