Topcon工艺去绕镀槽式设备

设计优点

①    进口PLC控制，稳步提升设备的产能。

②    斜拉式慢提拉结构，有效提升慢提拉槽脱水能力，匹配高效电池发展趋势。

③    工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃

④    引进半导体清洗工艺，保证硅片表面的洁净度。

带来利处

①    功能：用于N型topcon 等高效电池去除背面poly 硅层

②    ≥8000PCS/H

③    碎片率≤0.01%

④    Uptime≥98%

交付周期

①    预付款到账后90天